主な装置は次の通りです：溶解槽、沈殿槽、フィルター、焼成機、研削機、微粉研削ふるい。

主な工程は以下の通りです：原材料 → 溶解 → 複塩沈殿 → フィルター洗浄 → 高温焼成 → 研削 → 微粉研削ふるい → 低級セリウム希土類研磨粉の製品化。

セリウム酸化物研磨粉の主な成分は酸化セリウム（CeO2）であり、それに続いて酸化ランタン（La2O3）、酸化プラセオジム（Pr2O3）、ランタンオキシフルオライド（LaOF）が含まれます。また微量のシリカ、アルミナ、酸化カルシウムも存在します。

高セリウム希土類研磨粉の製造：

セリウム酸化物の分離後の希土類混合物を原料とし、物理的および化学的処理を経て、大きな硬度、均一なサイズ、小さな面心立方晶粒の粉末製品に変換します。

主な工程は以下の通りです：原材料 → 高温 → 焼成 → 水急冷 → 水力分級 → フィルトレーション → 乾燥 → 高セリウム希土類研磨粉の製品化。主な装置は焼成機、水急冷タンク、分級器、フィルター、乾燥箱です。主な指標は、製品中のREO含有率が99%、CeO2含有率が99%であり、希土類回収率は約95%です。この製品は高速研磨に適しており、従来の赤酸化鉄粉末（赤粉）に代わる第一選択とされています。

セリウムベースの希土類研磨粉の製造：

（REO含有率65%、CeO2含有率が48%以上）を原料とし、希土類塩溶液を化学的方法で前処理し、中間体（沈殿剤）を加えて、中間セリウム希土類研磨粉の製品（CeO2含有率80%〜85%）に変換します。

主な工程は以下の通りです：原材料 → 酸化 → 溶剤 → フィルター → 酸溶液 → 沈殿 → 洗浄フィルター → 高温焼成 → 微粉研削ふるい → 中間セリウム希土類研磨粉の製品化。主な装置は酸化槽、溶剤槽、酸槽、沈殿槽、フィルター、焼成機、微粉研削ふるい、包装機です。主な指標は、製品中のREO含有率が90%、CeO2含有率が80%〜85%であり、希土類触媒材料の回収率は約95%です。平均粒子サイズは0.4μmから1.3μmです。この製品は高速研磨に適しており、高セリウム希土類研磨粉よりも優れた性能を持っています。

低セリウム希土類研磨粉の製造：

（REO含有率45%以上、CeO2含有率48%以上）を原料とし、二重塩沈殿処理の中間体（沈殿剤）を合成し、低級セリウム希土類研磨粉の製品を準備できます。